[Çѱ¹´ëÇнŹ® ÀÌÁ¤È¯ ±âÀÚ] ÇѾç´ëÇб³ À¶ÇÕÀüÀÚ°øÇкΠ¹ÚÁø¼· ±³¼ö¿Í ¹ÚÀç±Ù ±³¼ö ¿¬±¸ÆÀÀº ÃÊÀúÀü·Â/°íÁýÀûÈ°¡ °¡´ÉÇÑ Àΰø ½Å°æ Ĩ°ú Àΰø ½Ã³À½º ¼ÒÀÚ¸¦ ¼³°èÇØ ½Ç½Ã°£ ºñÁöµµ ÇнÀ ¹× Ã߷аú °°Àº Àΰ£ÀÇ °íÂ÷¿øÀûÀÎ ÀÎÁö±â´ÉÀ» ±¸ÇöÇÑ ‘´º·Î¸ðÇÈ ¹ÝµµÃ¼’¸¦ °³¹ßÇß´Ù°í, 24ÀÏ ¹àÇû´Ù.

¼ºÀÎÀÇ ³ú´Â ¾à 1000¾ï°³ÀÇ ´º·±°ú 100Á¶°³ÀÇ ½Ã³À½º·Î ±¸¼ºµÅ ¾à 20W ¼öÁØ(ÀÛÀº Àü±¸ Çϳª¸¦ ¹àÈ÷±â À§ÇÑ ¼ÒºñÀü·Â)ÀÇ ³·Àº Àü·ÂÀ¸·Îµµ Áö½Ä ½Àµæ, À½¼º ¹× À̹ÌÁö ÀνÄ, ±×¸®°í Á¤º¸ÀÇ Ã߷аú °°Àº °íÂ÷¿øÀûÀÎ ÀÎÁö±â´ÉÀ» È¿À²ÀûÀ¸·Î ¼öÇàÇÒ ¼ö ÀÖ´Ù. ¹«¼öÈ÷ ¸¹Àº »ý¹°ÇÐÀûÀÎ ´º·±°ú ½Ã³À½º¸¦ ÀüÀÚ¼ÒÀÚ·Î ±¸ÇöÇØ Àΰ£ÀÇ ³ú¿Í À¯»çÇÏ°Ô ´ë±Ô¸ð µ¥ÀÌÅ͸¦ È¿À²ÀûÀ¸·Î ó¸®ÇÏ´Â ±â¼úÀÌ ½Å°æÇü ÄÄÇ»ÆÃ(´º·Î¸ðÇÈ ÄÄÇ»ÆÃ) ±â¼úÀÌ´Ù.
Àΰ£ ³úÀÇ ´º·±µéÀº ½Ç½Ã°£À¸·Î ÀԷµǴ ´ë±Ô¸ð µ¥ÀÌÅ͸¦ ½ºÆÄÀÌÅ© ½ÅÈ£¸¦ ÀÌ¿ëÇØ Á¤º¸¸¦ ó¸®Çϴµ¥, º¸°íµÈ ´ëºÎºÐÀÇ ¿¬±¸¿¡¼´Â »ý¹°ÇÐÀûÀÎ ´º·±À» ÀüÀÚ¼ÒÀÚ·Î ±¸ÇöÇÒ ¶§ Ä¿ÆнÃÅ͸¦ È°¿ëÇØ ´º·±ÀÇ ‘Integrate’ ±â´ÉÀ» ¸ð¹æÇß´Ù. ÇÏÁö¸¸ »ý¹°ÇÐÀûÀÎ ´º·±ÀÇ ‘Integrate’ ±â´ÉÀ» À§Çؼ´Â 500 μm² ÀÌ»óÀÇ ¸éÀûÀ» Â÷ÁöÇϱ⠶§¹®¿¡ ½ÇÁ¦ ´º·Î¸ðÇÈ Ä¨À» ±¸ÇöÇÒ ¶§ °íÁýÀûÈ°¡ ºÒ°¡´ÉÇß´Ù. ¶ÇÇÑ, ÇöÀç »ó¿ëȵǰí ÀÖ´Â ·ÎÁ÷ ¹ÝµµÃ¼ ¼ÒÀÚµé°ú ÁýÀûÈ Çϱâ À§Çؼ´Â ¾à 1.0 V ÀÌÇÏÀÇ ³·Àº µ¿ÀÛ Àü¾ÐÀÌ ÇÊ¿äÇѵ¥, °íÁýÀûÈ°¡ °¡´ÉÇÏ¸é¼ ³·Àº µ¿ÀÛÀü¾ÐÀÇ ¿ä±¸¸¦ µ¿½Ã¿¡ ¸¸Á·ÇÏ´Â Àΰø ´º·± ¼ÒÀÚ°¡ ÇöÀç±îÁö º¸°íµÇÁö ¾Ê¾Ò´Ù.

ÇѾç´ë ¹ÚÁø¼··¹ÚÀç±Ù ±³¼ö °øµ¿¿¬±¸ÆÀÀº ÀÌ·¯ÇÑ ¿ä±¸¸¦ µ¿½Ã¿¡ ¸¸Á·ÇÏ´Â ÃÊÀúÀü·ÂÀÇ ¹«Ä¿ÆнÃÅÍ Àΰø ´º·±À» °³¹ßÇß´Ù. ƯÈ÷, »ý¹°ÇÐÀû ´º·±ÀÇ ‘Integrate’ ±â´ÉÀ» Ä¿ÆнÃÅÍ°¡ ¾Æ´Ñ ¸â¸®½ºÅÍÀÇ Á¡ÁøÀûÀÎ ÀúÇ׺¯È¸¦ ÀÌ¿ëÇØ ±¸ÇöÇߴµ¥, Ä®ÄÚ°Ô³ªÀ̵å ÈÇÕ¹° ³»¿¡¼ À̵¿µµ(mobility)°¡ ºü¸¥ Àº(Ag) Çʶó¸àÆ®ÀÇ ²÷±è Á¤µµ¸¦ ¼¼¹ÐÇÏ°Ô Á¦¾îÇØ 0.7 V ÀÌÇÏ¿¡¼ ´º·±ÀÇ ‘Integrate’ ±â´ÉÀ» ¿Ïº®ÇÏ°Ô ¸ð¹æÇß´Ù. ¶ÇÇÑ, ÁÖº¯ ȸ·Î¸¦ »ó¿ëȵǰí ÀÖ´Â CMOS °øÁ¤À» È°¿ëÇØ ÆÄ¿îµå¸®¸¦ ÅëÇØ Á¦ÀÛµÈ ¹ÝµµÃ¼ Ĩ°ú Ä®ÄÚ°Ô³ªÀ̵å ÈÇÕ¹° ±â¹Ý ¸â¸®½ºÅ͸¦ ÅëÇØ »ý¹°ÇÐÀû ´º·±ÀÇ ¸ðµç ±â´ÉÀ» ¼öÇàÇÒ ¼ö ÀÖÀ¸¸é¼µµ °íÁýÀûÈ ¹× ÀúÀü·ÂÀ¸·Î ±¸Çö °¡´ÉÇÑ Àΰø ½Å°æ ĨÀ» °³¹ßÇß´Ù.
¹ÚÁø¼· ±³¼ö´Â “À̹ø ¿¬±¸¸¦ ÅëÇØ Áö±Ý±îÁö ÇØ°áµÇÁö ¸øÇß´ø °íÁýÀûÈ ¹× ÃÊÀúÀü¾Ð ±¸µ¿ÀÌ µ¿½Ã¿¡ °¡´ÉÇÑ ´º·Î¸ðÇÈ ¹ÝµµÃ¼¸¦ °³¹ßÇß´Ù”¸ç, “ÃßÈÄ ¿¬±¸¿¡¼´Â À̹ø¿¡ °³¹ßµÈ Àΰø ´º·±°ú ½Ã³À½º ¼ÒÀÚ¸¦ ÇϳªÀÇ chipÀ¸·Î integration ÇÏ´Â ¿¬±¸¸¦ ÁøÇàÇÒ °èȹ”À̶ó°í ¹àÇû´Ù.
ÇØ´ç ³í¹® ‘Real-Time Unsupervised Learning and Image Recognition via Memristive Neural Integrated Chip Based on Negative Differential Resistance of Electrochemical Metallization Cell Neuron Device’´Â ¹ÝµµÃ¼ ³ª³ëºÐ¾ß ±¹Á¦ Àú¸í ÇмúÁö ¡´Small¡µ (ÇÇÀοëÁö¼ö 13.0)¿¡ 1¿ù 21ÀÏÀÚ·Î ¿Â¶óÀÎ °ÔÀçµÆ´Ù. À̹ø ¿¬±¸´Â »ï¼º¹Ì·¡±â¼úÀ°¼º»ç¾÷ÀÇ Áö¿øÀ» ¹Þ¾Æ ¼öÇàµÆÀ¸¸ç, ÇѾç´ë ³ª³ë¹ÝµµÃ¼°øÇаú ¿ì´ë¼º ¹Ú»ç°úÁ¤ÀÌ Á¦1ÀúÀÚ·Î Âü¿©ÇÏ°í, ¹ÚÁø¼· ±³¼ö¿Í ¹ÚÀç±Ù ±³¼ö´Â °øµ¿ ±³½Å ÀúÀÚ·Î Âü¿©Çß´Ù.